三、結果和討論

各種流涂參(can)數用于形成(cheng)不同的(de)結(jie)構，例如(ru)超支化結(jie)構，垂直于流動方向(xiang)的(de)線(xian)（我(wo)們(men)將其表示為(wei)"水平(ping)線(xian)"）， 或平(ping)行(xing)于流動方向(xiang)的(de)線(xian)（我(wo)們(men)將其表示為(wei) "垂直條(tiao)紋"）。 為(wei)了探索這(zhe)些結(jie)構的(de)形成(cheng)， 我(wo)們(men)控(kong)制以下參(can)數： UVO 曝(pu)光(guang)時間（至 控(kong)制基材表面能(neng)）、初(chu)始(shi)PS溶液(ye)濃(nong)度（co）、流涂停止時間（t）和設(she)置距離(li) 流涂 (d)。

基材表面能的重要性

UVO 暴露(lu)時(shi)間(jian)會導致鍵斷裂和(he)交聯 在(zai) ODTS 層中引起表面能的(de)(de)變化 ODTS 改性底物。 17 UVO 暴露(lu)增(zeng)加 時(shi)間(jian)會導致水(shui)的(de)(de)接(jie)觸角減小(xiao)， 甲(jia)苯 [圖。 1(B)]。 在(zai)我們(men)的(de)(de)研究中，流涂 PS 溶液 在(zai) UVO 處理的(de)(de) ODTS 基(ji)材上使用 UVO 曝光(guang)時(shi)間(jian) 在(zai) 0 到 20 秒(miao)之間(jian)導致沒有 PS 沉積(ji) [圖。 1(C)]。 隨著 UVO 暴露(lu)時(shi)間(jian)在(zai) 70 到 180 秒(miao)之間(jian)增(zeng)加，PS 的(de)(de)水(shui)平線以確定的(de)(de)間(jian)距沉積(ji) 由滑動(dong)距離(li)（接(jie)觸線的(de)(de)釘扎和(he)脫釘之間(jian)的(de)(de)距離(li)）。12 然而(er)，有趣的(de)(de)是，在(zai) 60 秒(miao) UVO 暴露(lu)，觀察到超支化結構(gou)為 對(dui)齊良(liang)好的(de)(de)自(zi)相似三角形[圖。 1(C)]。

 我們在這(zhe)里(li)工作的重(zhong)要結(jie)果之一是在 60 秒 UVO 暴露下形成了這(zhe)些超支(zhi)化(hua)結(jie)構(gou) ODTS 基材通過(guo)流涂。 重(zhong)要的是，這(zhe)些結(jie)構(gou)是通過(guo)流涂創(chuang)建的，它將受控的"粘滑"運動引入接觸線(xian)，其中 PS 發生沉積。 無需(xu)流涂，一滴(di) PS 解(jie)決方案，例如，垂直條(tiao)紋（支(zhi)持信息，圖 S2）沉積。

溶質馬蘭戈尼流

據我(wo)們所(suo)知，超支化結構的(de)(de)(de)(de)(de)陣列有(you) 以(yi)前不是(shi)通過密(mi)閉蒸發(fa)獲得(de)的(de)(de)(de)(de)(de) 集會; 然而，通過將表(biao)(biao)(biao)面(mian)(mian)活性(xing)劑添加到含有(you) microshperes18 在(zai)純硅晶片(pian)上。 Stebe 等(deng)人。 推測 迪根的(de)(de)(de)(de)(de)周期(qi)性(xing)模式是(shi)由(you)(you)貝(bei)納德細胞產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)， 由(you)(you)熱 Marangoni 應(ying)(ying)力(li)(li)驅動。 19-21 作為液滴 蒸發(fa)，液滴表(biao)(biao)(biao)面(mian)(mian)冷卻并產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)作為深度(du)和半徑函數的(de)(de)(de)(de)(de)溫(wen)度(du)梯(ti)(ti)度(du)。 這(zhe)些 溫(wen)度(du)梯(ti)(ti)度(du)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)表(biao)(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)力(li)(li)梯(ti)(ti)度(du) 誘導(dao)熱 Marangoni 應(ying)(ying)力(li)(li)。 22,23 除了熱 Marangoni 應(ying)(ying)力(li)(li)、表(biao)(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)力(li)(li)梯(ti)(ti)度(du)也可以(yi)從(cong)溶質濃度(du)梯(ti)(ti)度(du)中(zhong)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)，24 正如所(suo)觀(guan)察到的(de)(de)(de)(de)(de) 并預測聚合物(wu)溶液。25,26 這(zhe)種效應(ying)(ying)是(shi) 稱為溶質馬蘭(lan)戈尼(ni)(ni)效應(ying)(ying)。 一個值得(de)注意的(de)(de)(de)(de)(de) 溶質 Marangoni 強(qiang)調的(de)(de)(de)(de)(de)例子(zi)是(shi)"Tears of Wine"，在(zai) 從(cong)表(biao)(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)力(li)(li)較低的(de)(de)(de)(de)(de)區域(yu)(yu)抽取的(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)體(ti) 由(you)(you)于張(zhang)(zhang)力(li)(li)梯(ti)(ti)度(du) 27,28（馬蘭(lan)戈尼(ni)(ni)力(li)(li)）而導(dao)致表(biao)(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)力(li)(li)較高的(de)(de)(de)(de)(de)區域(yu)(yu)。 在(zai)我(wo)們的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)作中(zhong)，摩擦(ca)引起(qi)的(de)(de)(de)(de)(de) 移動基(ji)板發(fa)生(sheng)(sheng)在(zai)邊(bian)緣方(fang)向 體(ti)溶液的(de)(de)(de)(de)(de)前面(mian)(mian)，29 方(fang)向與 流(liu)涂中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de) Marangoni 力(li)(li)。 這(zhe)些反對 力(li)(li)導(dao)致垂(chui)直條(tiao)紋的(de)(de)(de)(de)(de)周期(qi)性(xing)形成(cheng)，平行于流(liu)動方(fang)向。 因(yin)此，我(wo)們推測 這(zhe)些條(tiao)紋產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)超支化結構。

圖 2 (A) 僅通(tong)過流涂的(de)(de)(de)(de)甲(jia)苯(ben)的(de)(de)(de)(de)彎(wan)液面(mian)前(qian)端。 箭頭表(biao)(biao)示(shi)流動后退方(fang)向。 (B) 彎(wan)月面(mian) 聚苯(ben)乙烯(xi)（PS）在甲(jia)苯(ben)中(zhong)通(tong)過流涂的(de)(de)(de)(de)前(qian)面(mian)。 白(bai)色的(de)(de)(de)(de) 虛(xu)線是(shi)眼睛的(de)(de)(de)(de)指南，半月板前(qian)面(mian)跟(gen)隨 k 的(de)(de)(de)(de)周期波長。 (C) 表(biao)(biao)面(mian)張力和粘度作為(wei) 初(chu)始(shi) PS 濃度的(de)(de)(de)(de)函數。 藍(lan)色虛(xu)線表(biao)(biao)示(shi)甲(jia)苯(ben)的(de)(de)(de)(de)表(biao)(biao)面(mian)張力。 示(shi)意圖說明 可能由表(biao)(biao)面(mian)張力梯(ti)度引(yin)起的(de)(de)(de)(de)流動（由 濃度梯(ti)度）用于在彎(wan)月面(mian)蒸發(fa)前(qian)沿的(de)(de)(de)(de)甲(jia)苯(ben)中(zhong)的(de)(de)(de)(de) PS。

雖然熱 Marangoni 效(xiao)應(ying)是次(ci)要(yao)的(de) 對于我們的(de)工藝，如甲苯(ben)(ben)(ben)的(de)穩定性(xing)所示 在(zai)圖(tu) 2(A) 中沒有 PS 的(de)彎液面，我們相信(xin) 溶質(zhi) Marangoni 效(xiao)應(ying)在(zai)超支化結構(gou)的(de)形成(cheng)中起著(zhu)重(zhong)要(yao)作用（圖(tu) 2B）。 支持 這(zhe)個假設(she)，我們注(zhu)意到彎月面前(qian)沿，顯示在(zai) 圖(tu) 2(A,B)，僅顯示甲苯(ben)(ben)(ben)的(de)直線和 甲苯(ben)(ben)(ben)中 PS 的(de)正弦波表明溶質(zhi) 馬蘭戈尼(ni)效(xiao)應(ying)比熱馬蘭戈尼(ni)效(xiao)應(ying)更重(zhong)要(yao)。 產生的(de)溶質(zhi) Marangoni 效(xiao)應(ying) 通過濃度梯度引起的(de)表面張力梯度，24 是濃度局(ju)部(bu)波動的(de)結果 聚苯(ben)(ben)(ben)乙烯[圖(tu)。 2(C)]。

為了量化(hua)溶質 Marangoni 效(xiao)應，25,26,30,31 我們估(gu)計 馬蘭戈尼(ni)(ni)數 (Ma) 和(he)馬蘭戈尼(ni)(ni)波長 (k).32

這里，（dy/dc）.△c 是由 濃(nong)(nong)(nong)度(du)(du)梯度(du)(du)，h為(wei)(wei)柔性流涂刮刀(dao)下(xia)方間隙高度(du)(du)的(de)(de)(de)大小(xiao)，12 g為(wei)(wei)粘(zhan)度(du)(du)，D為(wei)(wei) 擴散系(xi)數。 PS 在(zai)(zai)甲苯中(zhong)的(de)(de)(de)粘(zhan)度(du)(du) 溶液隨(sui)著 PS 濃(nong)(nong)(nong)度(du)(du)的(de)(de)(de)增加而增加。 33 表(biao)面(mian)(mian)張力的(de)(de)(de)變(bian)(bian)化(hua)對應于(yu)各種變(bian)(bian)化(hua) 初始 PS 濃(nong)(nong)(nong)度(du)(du)水平 [圖(tu)(tu)。 2(C)] 被測(ce)量(liang) 使(shi)用 Micro Trough XS (Kibron, 公司）。 根(gen)據這些數據，我(wo)們確定 dc=dc e T? Dc.此外， 對應于(yu)不(bu)同初始 PS 濃(nong)(nong)(nong)度(du)(du)水平的(de)(de)(de)粘(zhan)度(du)(du)變(bian)(bian)化(hua) [圖(tu)(tu)。 2(C)] 測(ce)量(liang)，使(shi)用 TA 儀器 AR2000 流變(bian)(bian)儀，帶標準(zhun)同心圓(yuan)柱體，溫度(du)(du)為(wei)(wei) 20 8C，剪切速率為(wei)(wei) 200 s21 . 使(shi)用測(ce)量(liang) 值，假(jia)設(she) D 5 2.1 3 10211 m2 /s（與 Ref. 34）（計(ji)(ji)算(suan)參(can)見支持(chi)信(xin)息(xi)），并假(jia)設(she)溶液濃(nong)(nong)(nong)度(du)(du)在(zai)(zai)蒸發彎(wan)液面(mian)(mian)附近發生變(bian)(bian)化(hua)（計(ji)(ji)算(suan)參(can)見支持(chi)信(xin)息(xi)），我(wo)們 找(zhao)到 1052106 的(de)(de)(de) Marangoni 數， 這表(biao)明在(zai)(zai)彎(wan)月面(mian)(mian)前(qian)沿的(de)(de)(de)主要貢(gong)獻是 溶質馬(ma)蘭(lan)(lan)戈尼效應。 因(yin)此，當地的(de)(de)(de)馬(ma)蘭(lan)(lan)戈尼 流動 [圖(tu)(tu) 2(C) 中(zhong)的(de)(de)(de)示意圖(tu)(tu)] 導致正弦形狀 彎(wan)月面(mian)(mian)，其波(bo)(bo)長(chang)由特性給出 Marangoni 流的(de)(de)(de)波(bo)(bo)長(chang)（參(can)見支持(chi)信(xin)息(xi) 計(ji)(ji)算(suan)）。 因(yin)此，這種 Marangoni 效應設(she)置(zhi)了圖(tu)(tu) 3 中(zhong)垂直條紋和(he)點的(de)(de)(de)周期性。 Marangoni 波(bo)(bo)長(chang)的(de)(de)(de)幅(fu)度(du)(du)預計(ji)(ji)為(wei)(wei) 在(zai)(zai) 1.3 到 3.1 lm 之間，小(xiao)于(yu)測(ce)量(liang)值 30 流明，無論 UVO 暴露如何(he)，它都幾乎保持(chi)不(bu)變(bian)(bian) 時間。 預測(ce)和(he)測(ce)量(liang)的(de)(de)(de) Marangoni 的(de)(de)(de)這種差異 波(bo)(bo)長(chang)最有可能是由于(yu)不(bu)可測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)增加 蒸發彎(wan)液面(mian)(mian)前(qian)沿的(de)(de)(de)粘(zhan)度(du)(du)。25,30

圖 3 (A) 具有停止(zhi)時間(jian)(jian)、t 5 100 ms 和設定距(ju)離的(de)超支化(hua)(hua)結構形成的(de)原位視頻圖像， d 5 5 流(liu)(liu)明。 快照之間(jian)(jian)的(de)間(jian)(jian)隔時間(jian)(jian) (Dt) 為 100 ms，步距(ju) (Ds) 從紅色(se)三(san)角(jiao)形開(kai)始(shi)測量(liang) 標記。 白色(se)箭頭表示流(liu)(liu)動后退(tui)方向。 (B) 超支化(hua)(hua)結構的(de)進化(hua)(hua)示意圖。

超支化結構形成

揭示(shi)自發結構(gou)形(xing)成(cheng)的(de)細(xi)節 超(chao)支化結構(gou)，我(wo)們(men)采用(yong)原位(wei)顯微鏡(jing)[圖。 3(A)]。 視頻圖像顯示(shi)超(chao)分(fen)支 結構(gou)通常分(fen)三(san)個(ge)階段形(xing)成(cheng)[圖。 3(B)]。 我(wo)們(men)注意到，由(you)于(yu)我(wo)們(men)的(de)彎液面(mian)(mian)的(de)動(dong)(dong)態 過程中，我(wo)們(men)很難測量波(bo)長 動(dong)(dong)態彎液面(mian)(mian)。 在(zai)第一階段，手指平行于(yu) 由(you)于(yu)馬蘭(lan)戈尼(ni)不穩定性(xing)而(er)出現流動(dong)(dong)方向(xiang) 和摩擦(ca)。 重要的(de)是(shi)，三(san)角形(xing)半月板(ban)將手指連接到半月板(ban)前部。 由(you)于(yu)手指是(shi) 與本(ben)體溶液相比，PS 的(de)濃度更高， 手指的(de)表面(mian)(mian)張(zhang)力(li)相對較高，拉(la)入 本(ben)體溶液，具有較低的(de)表面(mian)(mian)張(zhang)力(li)。 這一步是(shi) 如圖3(B)(a)所示(shi)。

在第二階段，一(yi)根手指(zhi)分成兩(liang)根，從而形(xing)成一(yi)個(ge)(ge)分支(zhi)。 這種劃分與足夠的(de)(de)(de)(de) 使三(san)角(jiao)形(xing)彎(wan)月面變(bian)薄(bo)(bo) 拉伸(shen)至(zhi)由流涂設定(ding)距離(li)確定(ding)的(de)(de)(de)(de)長度(du)。 如果設置的(de)(de)(de)(de)距離(li)足夠小，那么細化 不會(hui)發(fa)生，PS 溶液(ye)(ye)繼(ji)續饋送垂直 條紋。 對于(yu)變(bian)薄(bo)(bo)的(de)(de)(de)(de)三(san)角(jiao)形(xing)彎(wan)月面，我們假設 兩(liang)個(ge)(ge)邊(bian)緣(yuan)的(de)(de)(de)(de)蒸發(fa)過程[圖(tu)2中的(de)(de)(de)(de)兩(liang)個(ge)(ge)點。 3(B) (b)] 由于(yu)幾何形(xing)狀的(de)(de)(de)(de)原因，蒸發(fa)速度(du)更快 該位置的(de)(de)(de)(de)彎(wan)液(ye)(ye)面，即靠近刀片的(de)(de)(de)(de)位置 這會(hui)導(dao)致(zhi)更陡峭(qiao)的(de)(de)(de)(de)角(jiao)度(du)。 因此，邊(bian)緣(yuan)變(bian)為 更集(ji)中，增加了(le)表面張力，這在 轉彎(wan)繪制了(le)較低級別的(de)(de)(de)(de)解決(jue)方案 [彎(wan)曲的(de)(de)(de)(de)箭頭 圖(tu)3（B）（b）]中的(de)(de)(de)(de)流動。 拉伸(shen)的(de)(de)(de)(de)三(san)角(jiao)形(xing)彎(wan)月面中的(de)(de)(de)(de)向外流動導(dao)致(zhi)了(le)較低的(de)(de)(de)(de)高度(du)輪廓 中間由原子力顯微鏡表征（支(zhi)持信(xin)息，圖(tu) S3）。

分支(zhi)一直(zhi)持續到第三(san)階段[圖(tu)。 3(B)(c)] 當(dang)達(da)到編程設定的距離時。 此時，該 基板停止移動(dong)，三(san)角形(xing)彎(wan)月(yue)指(zhi)再(zai)次(ci)形(xing)成(cheng)，重復該過程以形(xing)成(cheng)延伸 超支(zhi)化結(jie)構(gou)[與圖(tu)3（B）（a）相同]。

圖 4 PS 模(mo)式作(zuo)為設定距離 d 的函(han)數，具有常數 co (co 5 0.5 mg/mL)、t (t 5 100 ms) 和 UVO 暴露時(shi)間(jian) （60 秒）。 白色箭頭表示流動(dong)后退方(fang)向。

設置(zhi)距離的(de)重要性

了(le)(le)解(jie)超分支的(de)(de)控制參數(shu) 幾何，我們檢(jian)查了(le)(le)設置距離 d 的(de)(de)影響（圖 4）， 同(tong)時(shi)(shi)保持(chi) co、停止時(shi)(shi)間(jian)和 UVO 曝光時(shi)(shi)間(jian)常數(shu)。 當(dang) d 較(jiao)小時(shi)(shi)，例如(ru) d 5 1 或 2 lm，垂(chui)直(zhi) 形(xing)成平(ping)行于流動(dong)方向(xiang)的(de)(de)條(tiao)紋(wen)。 間(jian)距 這些垂(chui)直(zhi)條(tiao)紋(wen)的(de)(de)數(shu)量由 Marangoni 波(bo)長設置； 然(ran)而，隨著設定距離的(de)(de)增加(jia)，結構(gou)發生了(le)(le)變化 從條(tiao)紋(wen)到(dao)超支化結構(gou)。 此(ci)外，當(dang) d 大(da)(da)于滑(hua)動(dong)距離，例如(ru)，d 5 20 lm 或 更大(da)(da)的(de)(de)、垂(chui)直(zhi)于后(hou)退流的(de)(de)水平(ping)線 方向(xiang)被(bei)(bei)沉積。 這種轉變與 在(zai)(zai)彎液面接觸(chu)(chu)線上(shang)形(xing)成臨界應力 造成不穩定。 在(zai)(zai)小 d，而 Marangoni 流 將材料(liao)推向(xiang)接觸(chu)(chu)線，刀片運動(dong)將聚合(he)物材料(liao)拖離接觸(chu)(chu)線； 因此(ci)，沉積了(le)(le)垂(chui)直(zhi)條(tiao)紋(wen)。 當(dang)半月板被(bei)(bei)拉(la)伸(shen)時(shi)(shi) 在(zai)(zai) 3 到(dao) 7 lm 之間(jian)，形(xing)成超支化結構(gou)。 為了(le)(le) d 足(zu)夠大(da)(da)，彎月面被(bei)(bei)強烈(lie)拉(la)伸(shen)并且 動(dong)搖。 固定觸(chu)(chu)點處(chu)的(de)(de)濃縮材料(liao) 線被(bei)(bei)沉積并形(xing)成一條(tiao)水平(ping)線，而另(ling)一個 部分拉(la)伸(shen)薄膜隨著刀片移動(dong)。

圖 5 (A) PS 圖案(an)作為 UVO 曝(pu)光(guang)時(shi)(shi)間(jian)的(de)函數 具有恒定的(de)初(chu)始 PS 濃度 (co 5 0.5 mg/mL)、停止時(shi)(shi)間(jian) (t 5 1000 ms) 和設置距離 (d 5 1 mm)。 這 白色箭頭(tou)表(biao)示流動后退方向。 (二(er)) 聚苯乙(yi)烯 模式作為 co 和 t 的(de)函數，同時(shi)(shi)保持不(bu)變 距離 (d 5 5 lm) 和 60 秒(miao)的(de) UVO 曝(pu)光(guang)時(shi)(shi)間(jian)。

溶質沉積的重要性

雖然表(biao)面能不影(ying)響(xiang) Marangoni 流(liu)動(dong)，它確實在(zai)聚(ju)合物(wu)的(de)(de)(de)沉積過程中起作用(yong) 涂層，15,16,35 包括超支化(hua)結(jie)構的(de)(de)(de)流(liu)涂 [圖。 1(C)]。 如前所述，26,36,37 蒸發(fa)是 接(jie)觸角越小，溶質向(xiang)外流(liu)動(dong)越快 增(zeng)加(jia)，導致更多(duo)的(de)(de)(de)沉積。 在(zai)我(wo)們的(de)(de)(de)方(fang)法中，通過觀察沉積在(zai)初始接(jie)觸線上的(de)(de)(de) PS 數量并(bing)控制停止(zhi)時(shi)(shi)間，證(zheng)實了這種(zhong)效果(guo) [無花果(guo)。 5(A)]。 PS吸附量隨著(zhu)UVO的(de)(de)(de)增(zeng)加(jia)而增(zeng)加(jia) 由于在(zai)彎液面較(jiao)(jiao)低的(de)(de)(de)接(jie)觸角下溶劑蒸發(fa)增(zeng)加(jia)，暴露時(shi)(shi)間增(zeng)加(jia)。 未來(lai)的(de)(de)(de)研究 控制蒸發(fa)率對(dui)圖案形(xing)成的(de)(de)(de)影(ying)響(xiang) 6,38 可(ke)以(yi)使(shi)用(yong)流(liu)涂進行(xing)，例如， 強制空氣對(dui)流(liu)以(yi)改變(bian)蒸發(fa)率。 6 此(ci)外， 已知較(jiao)(jiao)大(da)的(de)(de)(de)接(jie)觸角有利于去(qu)濕，15,16 和 因此(ci)，拉伸的(de)(de)(de)半月板(ban)不穩定， 解釋(shi)為什么超支化(hua)結(jie)構傾向(xiang)于出現在(zai) 接(jie)觸角較(jiao)(jiao)大(da)的(de)(de)(de)基材。

初始溶液濃度的重要性 和停止時間

進(jin)一步探(tan)索影(ying)響(xiang)超(chao)支化(hua)(hua)(hua)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)變量(liang) 結構形(xing)成，我們保持UVO曝光時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)并(bing)設置 距(ju)離，d，常數，分別為 60 s 和(he) 5 lm，并(bing)且變化(hua)(hua)(hua) 流涂參數，初始溶液濃度，co， 和(he)停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)，t。 圖 5(B) 顯示了作(zuo)為 co 和(he) t 函(han)數的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)沉積(ji) PS 的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)典(dian)型形(xing)態特征。 對于 PS 溶質在(zai)接(jie)觸線(xian)上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)沉積(ji)，在(zai)某(mou)種(zhong)程度上(shang)(shang)， 停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)相當(dang)于集(ji)中注意力(li)。 更(geng)(geng)長(chang)(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)停車時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian) 時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)促進(jin)更(geng)(geng)多(duo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)蒸(zheng)發，39 從(cong)而在(zai)接(jie)觸線(xian)上(shang)(shang)創造一個更(geng)(geng)集(ji)中的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)區(qu)域，與相同 co 的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)更(geng)(geng)短停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)相比。 這(zhe)種(zhong)相似性是由 增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia) co 或(huo)(huo)通(tong)過增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia)停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)，顯示 從(cong)超(chao)支化(hua)(hua)(hua)結構到垂(chui)直(zhi)(zhi)結構的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)相同過渡(du) 條紋。 轉換是通(tong)過更(geng)(geng)低的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de) co 和(he)更(geng)(geng)長(chang)(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)實(shi)現的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de) 停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)或(huo)(huo)通(tong)過更(geng)(geng)高的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de) co 縮短停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)。 在(zai) 低 co (co 5 0.1 mg/mL)，在(zai) 更(geng)(geng)短的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)（t 5 70 ms），或(huo)(huo)者在(zai)較(jiao)長(chang)(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)（t 5 100 150 ms）下(xia)產生具有垂(chui)直(zhi)(zhi)拖尾的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)點。 對于這(zhe)些較(jiao)低的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de) co，預計停止(zhi)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)會更(geng)(geng)長(chang)(chang) 足夠(gou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)粘度增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia)需要時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian) 實(shi)現了 PS 沉積(ji)。 在(zai)更(geng)(geng)高的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de) co 或(huo)(huo)更(geng)(geng)長(chang)(chang)時(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)停止(zhi) 次(ci)，接(jie)觸點附近有更(geng)(geng)多(duo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)聚合(he)物材料可(ke)用 線(xian)，防止(zhi)拉伸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)半月板(ban)不(bu)(bu)穩(wen)定(ding) 進(jin)入分支結構。 周期(qi)性（波長(chang)(chang)） 垂(chui)直(zhi)(zhi)條紋之間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)由 Marangoni 決定(ding) 不(bu)(bu)穩(wen)定(ding)性和(he)周期(qi)性隨著 co 的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia)而增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia) [圖 5（B）中 t 5 120 和(he) 150 ms 的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)垂(chui)直(zhi)(zhi)列]。 這(zhe)種(zhong)增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia) 觀察到周期(qi)性，因為粘度 g 增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia) [無花(hua)果(guo)。 2(C) 證明了 g 隨著 co 增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia)而增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia)] 結果(guo) Ma 的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)減少和(he) k 的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)(jia)（方程 1 和(he) 2）。

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——摘要、簡介

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——實驗制作

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——結果和討論

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——結論、致謝！